奈米球自組裝———- ——–微影術蝕刻製作
· PDF 檔案奈米球自組裝塗佈法 1.旋轉塗佈法（1993年） 利用旋轉時的離心力幫助奈米球的自組裝 2.乾式塗佈法乾式塗佈法 （（ 20032003年年 ）） 能製作50 μm2無缺陷蝕刻圖樣 3.自然塗佈法（2003年） 藉調配奈米球溶液與介面活性劑的比例完成最簡 單的塗佈法
CORE
因此製備無缺陷且具有大範圍有序排整定向的奈米圖案成形模板為應用上的關鍵技術。 由於旋轉塗佈技術形成的薄膜具有良好的均勻性，所以在一般製程技術上最常被使用。本實驗室先前利用旋轉塗佈之方式作為奈米圖案製程，並發現在塗佈的過程中
光刻介紹_圖文_百度文庫
自旋轉數越高塗佈的均勻性越好 54 光阻厚度與自旋轉速在不同的黏滯 係數下的關係 3.5 100 cst 3.0 2.5 50 cst 2.0 厚度 (μ m) 1.5 1.0 0.5 0 27 cst 20 cst 10 cst 5 cst 2k 3k 4k 5k 6k 7k 自旋轉速 (rpm) 55 動態自旋轉速 時間 56 光阻自旋塗佈機 讓光阻散佈在自旋的晶圓表面 晶圓
工作團隊
· DOC 檔案 · 網頁檢視研究中利用旋轉塗佈的方式，將溶凝膠塗佈於PES基板，經由低溫熱處理(200 C)形成氧化鋅薄膜。 本實驗控制之參數為改變溶膠溶液濃度，探討溶膠-凝膠法以低溫製程於PES基板製備氧化鋅薄膜結構特性的變化 …
實務專題報告書
· PDF 檔案實務專題報告書 氧化鋅薄膜摻雜銅元素之晶體結構 特性分析研究 指導老師：高銘政 專題製作學生：四技子三甲 BQ105014許秦維 四技子三甲 BQ105018林祐崧 四技子三甲 BQ105025高旭賢 四技子三甲 BQ105031黃禹博 中華民國一百零八年六月二十日
如何評估光阻下載_在線閱讀
假如旋轉塗佈的轉速和時間的調配不當，光阻劑層厚度的均勻性 將大大的受影響，比較重要的參數是旋轉加速度（Spin Ramping）的 控制[16] 。 這個加速度應該夠快，使得基板到達最高轉速的時間短， 以減少光阻劑因為溶劑揮發出所導致的黏度變化，但還不至於使得基 板因此而破損。
半導體製程技術
· PDF 檔案為了保持固定的襯墊旋轉 速率，研磨頭旋轉馬達 的電流將會改變 監視馬達電流的改變，我們可以找到CMP製程的 光阻塗佈 與烘烤 P型晶圓 深埋SiO2 層 STI USG USG 光阻 光罩2: N-型井區 P型磊晶層 …
硫化溫度對於 Cu2ZnSnS4 太陽電池吸收層特性影響
· PDF 檔案硫化溫度對於Cu2ZnSnS4 太陽電池吸收層特性影響 陳俊宇1 姚品全2* 1 大葉大學電機工程研究所（彰化縣大村鄉學府路168 號） 2 大葉大學材料科學與工程學系（彰化縣大村鄉學府路168 號） *[email protected] 銅鋅錫硫化物(Cu2ZnSnS4)薄膜為p 型直接能隙半導體，具有低成本，無毒性， …
TWI613512B
一產品結構(407，330′)被形成有缺陷(360至366)。在該產品結構上提供至少部分地相干之一EUV輻射光點(S)(604)以捕捉由該輻射在由該產品結構散射之後形成之至少一個繞射圖案(606)。參考資料(612)描述一標稱產品結構。自經捕捉影像資料計算該產品結構之至少一個合成影像(616)。
液晶顯示器零組件-配向膜偏光片.PDF
液晶顯示器零組件-配向膜偏光片.PDF，液晶顯示器零組件‐配向膜， 偏光片 修平技術學院電子系修平技術學院電子系 副教授施能夫 1 配向技術之探討配向技術之探討 • 簡介簡介 • 配向膜的特性介紹 • 配向膜上的液晶排列研究 •• 配向膜材料未來的發展趨勢配向膜材料未來的發展趨勢 2
